Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.

Optical and X-Ray Characterization

Optical and X-Ray Characterization
Ce cours fait partie de Spécialisation "Semiconductor Characterization"

Instructeur : Trevor Thornton
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Expérience recommandée
Ce que vous apprendrez
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Compétences que vous acquerrez
- Catégorie : Laboratory Equipment
- Catégorie : Structural Analysis
- Catégorie : Materials science
- Catégorie : Semiconductors
- Catégorie : Laboratory Testing
- Catégorie : Laboratory Techniques
- Catégorie : Engineering, Scientific, and Technical Instruments
- Catégorie : Analytical Testing
- Catégorie : Analytical Chemistry
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Révisé le 8 mai 2024
Quick introduction and review of important topics. I wish if more such courses are introduced.

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