Course 2 begins with the definitions of resistivity and sheet resistance of semiconductors and metals and emphasizes the importance of working with the correct units for each. We see how to calculate the sheet resistance of a thin conducting film once we know its resistivity. A method to determine the contact resistance using the transfer length method is described, along with the definition of the specific contact resistivity. Current-voltage (IV) measurements of p-n junction diodes are used to extract key device parameters such as the ideality factor and series resistance. The course project explores how process monitor blocks are used to maintain manufacturing integrity.
Electrical Characterization: Diodes
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Electrical Characterization: Diodes
Dieser Kurs ist Teil von Spezialisierung Semiconductor Characterization
Dozent: Trevor Thornton
Bei 
enthalten
Verschaffen Sie sich einen Einblick in ein Thema und lernen Sie die Grundlagen.
Stufe Mittel
Empfohlene Erfahrung
Es dauert 4 Stunden
3 Wochen bei 1 Stunde pro Woche
Flexibler Zeitplan
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Was Sie lernen werden
Define resistance, resistivity, and sheet resistance and their associated units.
Describe how to perform four-point probe current-voltage measurements.
Explain the use of the transfer length method.
Kompetenzen, die Sie erwerben
- Kategorie: Semiconductor Device
- Kategorie: Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS)
- Kategorie: Semiconductors
- Kategorie: Semiconductor Characterization Techniques
- Kategorie: Semiconductor Materials
- Kategorie: Semiconductor Device Physics
Wichtige Details
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6 Aufgaben
Unterrichtet in Englisch
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- Erwerben Sie berufsrelevante Kompetenzen durch praktische Projekte
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In diesem Kurs gibt es 6 Module
Course 2 begins with the definitions of resistivity and sheet resistance of semiconductors and metals and emphasizes the importance of working with the correct units for each. We see how to calculate the sheet resistance of a thin conducting film once we know its resistivity. A method to determine the contact resistance using the transfer length method is described, along with the definition of the specific contact resistivity. Current-voltage (IV) measurements of p-n junction diodes are used to extract key device parameters such as the ideality factor and series resistance. The course project explores how process monitor blocks are used to maintain manufacturing integrity.
Das ist alles enthalten
1 Video2 Lektüren
This week introduces the concepts of resistivity and sheet resistance.
Das ist alles enthalten
3 Videos1 Aufgabe
This week, you will learn about measuring resistance with four-point probes.
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2 Videos1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will learn about measuring contact resistance using transfer length measurements.
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2 Videos1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will learn about the current-voltage (IV) characteristics of diodes.
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1 Video1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will complete a case study to assess your ability to determine what happened to a process monitor block to change its resistance.
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1 Video2 Aufgaben
Dozent
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