Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
Optical and X-Ray Characterization
Optical and X-Ray Characterization
Dieser Kurs ist Teil von Spezialisierung Semiconductor Characterization
Dozent: Trevor Thornton
Verschaffen Sie sich einen Einblick in ein Thema und lernen Sie die Grundlagen.
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Stufe Mittel
Empfohlene Erfahrung
Es dauert 4 Stunden
3 Wochen bei 1 Stunde pro Woche
Flexibler Zeitplan
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Was Sie lernen werden
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Kompetenzen, die Sie erwerben
- Kategorie: Semiconductor Device
- Kategorie: Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS)
- Kategorie: Semiconductors
- Kategorie: Semiconductor Characterization Techniques
- Kategorie: Semiconductor Materials
- Kategorie: Semiconductor Device Physics
Wichtige Details
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5 Aufgaben
Unterrichtet in Englisch
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In diesem Kurs gibt es 6 Module
Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
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This week introduces the concept of reflectance spectroscopy: a rapid, convenient, and non-destructive technique for measuring the thickness of transparent materials.
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2 Videos1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will learn about ellipsometry, a powerful technique that allows us to extract the thickness and refractive index of transparent layers as thin as a few nanometers.
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1 Video1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will learn about photoluminescence.
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1 Video1 Lektüre1 Aufgabe
This week, you will learn about electron microprobe X-ray analysis.
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2 Videos1 Aufgabe
This week, you will complete a case study to assess your ability to analyze electron microprobe x-ray images to determine the constituent elements in a 40 nm MOSFET.
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1 Video1 Lektüre1 Aufgabe
Dozent
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Felipe M.
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Jennifer J.
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