Electron and ion beams are widely used for both qualitative and quantitative analysis of semiconductor materials and devices. They can be used to image structures with sub-nm resolution and to provide information about elemental composition and dopant concentration. This course describes the fundamentals of electron and ion beam characterization and includes a project that analyzes the surface roughness of a solar cell.
Electron and Ion Beam Characterization
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Electron and Ion Beam Characterization
Ce cours fait partie de Spécialisation Semiconductor Characterization
Instructeur : Trevor Thornton
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niveau Intermédiaire
Expérience recommandée
4 heures pour terminer
3 semaines à 1 heure par semaine
Planning flexible
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Ce que vous apprendrez
Explain the interaction of electron and ion beams with semiconductor materials.
Describe the constituent components of electron and ion beam characterization systems.
Describe applications of electron and ion beam characterization.
Compétences que vous acquerrez
- Catégorie : Semiconductor Device
- Catégorie : Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS)
- Catégorie : Semiconductors
- Catégorie : Semiconductor Characterization Techniques
- Catégorie : Semiconductor Materials
- Catégorie : Semiconductor Device Physics
Détails à connaître
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5 devoirs
Enseigné en Anglais
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Electron and ion beams are widely used for both qualitative and quantitative analysis of semiconductor materials and devices. They can be used to image structures with sub-nm resolution and to provide information about elemental composition and dopant concentration. This course describes the fundamentals of electron and ion beam characterization and includes a project that analyzes the surface roughness of a solar cell.
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