Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
Optical and X-Ray Characterization
Optical and X-Ray Characterization
Ce cours fait partie de Spécialisation Semiconductor Characterization
Enseigné en Anglais
Instructeur : Trevor Thornton
Inclus avec 
Cours
Familiarisez-vous avec un sujet et apprenez les fondamentaux
4.7
(10 avis)
niveau Intermédiaire
Expérience recommandée
4 heures (approximativement)
Planning flexible
Apprenez à votre propre rythme
Ce que vous apprendrez
Describe the use of light to measure the thickness and refractive index of thin transparent films.
Explain how light is absorbed and emitted by semiconductors.
Explain the advantages and limitations of optical and X-ray characterization.
Compétences que vous acquerrez
- Catégorie : Semiconductor Device
- Catégorie : Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS)
- Catégorie : Semiconductors
- Catégorie : Semiconductor Characterization Techniques
- Catégorie : Semiconductor Materials
- Catégorie : Semiconductor Device Physics
Détails à connaître
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Optical and X-ray techniques are powerful ways to characterize semiconductor thin films. They can be used to measure film thickness, purity and crystalline quality, and for compositional analysis. Modern techniques are fast, turn-key, and generally non-destructive, allowing for rapid assessment of material properties. This course describes the fundamentals of optical and X-ray characterization and provides real-world examples of how they are used in semiconductor manufacturing.
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This week introduces the concept of reflectance spectroscopy: a rapid, convenient, and non-destructive technique for measuring the thickness of transparent materials.
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This week, you will learn about photoluminescence.
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This week, you will learn about electron microprobe X-ray analysis.
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This week, you will complete a case study to assess your ability to analyze electron microprobe x-ray images to determine the constituent elements in a 40 nm MOSFET.
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Instructeur
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